多晶硅生产刚需：德高洁自动化清洗系统保障电子级洁净度

多晶硅还原炉钟罩表面易沉积副产物，影响生产质量，需定期清洗。人工清洗因残留物具腐蚀性、反应放热易引发安全隐患，且需严格操作。德高洁研发自动化高压水清洗系统，由多装置组成，通过水力驱动三维喷头 360° 清洗，搭配碱液、纯水冲洗及热风烘干，全流程自动化。系统采用 PLC 控制，可调节参数，全封闭作业避免污染。

多晶硅是光伏行业和微电子行业的基础材料，生产多晶硅主要采用改良西门子法，改良西门子法生产多晶硅的反应器主要采用多晶硅还原炉。在多晶硅生产过程中，还原炉钟罩表面上会沉积一定厚度的多晶硅副产物、硅粉等。但多晶硅生产对还原炉沉积环境的洁净度要求特别关键，任何颗粒性杂质、物料等物质余留在炉内，都会对产品质量造成影响。所以在还原炉运行一个周期结束后，需要对还原炉钟罩内部进行彻底清洗后，再进行下一个周期的化学气相沉积。

一、多晶硅还原炉钟罩内部残留清洗原理及挑战

残留物的主要化学成分是Si，能和氢氧化钠发生氧化还原反应，其他物质有SiO2、(HSiO)2O等，均含弱酸性易与氧化钠溶液发生中和反应。利用氢氧化钠溶液，将紧密附着在还原炉内表面的膜状沉积物腐蚀以便清理，在此清洗原理下，对多晶硅还原炉清洗时需要面临以下问题：
 
1、因还原炉内残留物及清洗液均为具有腐蚀性的化学物质，同时在清洗中残留氯硅烷会发生水解伴有氢气产生，且水解反应为强烈的放热反应，容易产生爆鸣燃烧。因此，人工清洗过程中具有一定的安全隐患，清洗过程中必须穿戴好劳保用品，并佩戴防护手套；
2、人工用氧化钠溶液擦洗还原炉钟罩时，必须操作要缓慢以免摩擦生热引起着火；
3、清洗中要保证将钟罩烘烤干避免有残留水分，影响下一批次的生产周期及产品质量。

二、多晶硅还原炉钟罩内部自动清洗方式

由于多晶硅还原炉钟罩的清洗存在一定的安全隐患，行业内需要提供一套安全高效的清洗方式，德高洁结合多晶硅生产工艺及设备需求，独立自主研发了一套自动化高压水多晶硅还原炉钟罩清洗系统，其由高压热水动力清洗装置，热风净化烘干机组、清洗烘干工作台、PLC电气控制系统等组成，自动化完成还原炉钟罩内部的清洗及烘干流程，减少人工投入，提高清洗效率、质量、环保、安全等性能。

自动化高压水多晶硅还原炉钟罩清洗系统整个清洗流程包括：还原炉钟罩到位→预清洗→清洗剂(碱液)清洗→漂洗→高纯水冲洗→净化热空气干燥→常温干燥→钟罩吊走。其工作原理是以水力自驱动三维自动旋转喷头，形成360°的网状喷射表面，完成钟罩内部表面的水力扫射，用专用清洗剂等为主要清洗液，用纯水(去离子水或叫脱盐水)漂洗，最后用高纯水冲洗后烘干，最终完成整个清洗过程。
 
还原炉钟罩清洗过程中，一次吊装在一个工作台上完成全部清洗、烘干过程，清洗时钟罩底部法兰和清洗平台组成一个全封闭空间，避免高压水射流喷射出钟罩外，对周围环境及工作人员健康的负面影响。德高洁多晶硅还原炉钟罩自动清洗系统，采用PLC电气控制系统，可根据多晶硅实际生产实况调整清洗压力、流量及清洗时间，在保障清洗质量的同时，节约水资源的浪费，系统同时具有半自动或手动功能，提高工人的适应性。

德高洁多晶硅还原炉钟罩清洗系统操作简单，设备安全稳定，其核心部件、元件和附件原装进口保证了电子级多晶硅钟罩清洗系统性能的可靠，可以在一套系统实现多种型号钟罩的清洗烘干。目前，德高洁在多晶硅还原炉清洗行业已拥有国内90%的用户，为多晶硅行业提供了几十套还原炉清洗系统，经验丰富，技术可靠。
 
德高洁作为一家专业的环保清洁设备供应商，在环保除尘、净化、工业设备清洁领域已积累了近三十年的业内宝贵经验，自2007年便致力于研发高效率、高环保、高质量的自动化系统，期间自主研发并投入使用了一系列高压水自动化清洗系统，可对液压支架、吨桶、罐车、反应釜、罐式集装箱、储罐、发酵罐、多晶硅还原炉钟罩等设备进行自动化清洗，并结合企业实际生产工况，提供可定制化自动清洗解决方案，做到以客户需求为基准，用现代技术、标准工艺，竭诚为客户服务。