全密闭一体化流程 多晶硅还原炉钟罩清洗烘干系统

改良西门子法生产多晶硅时，对还原炉的沉积环境的洁净度要求特别苛刻，但在还原炉内高温反应过程中，还原炉钟罩内壁表面会沉积一定厚度的多晶硅副产物、硅粉等污垢，积垢的形成会对还原炉的绝缘性能、能耗指标、产品质量等产生严重的影响，所以在还原炉运行一个周期结束后，需要对还原炉钟罩内壁进行清洁，再进行周期的化学气相沉积。

通常对于多晶硅还原炉钟罩的清洗主要工艺包括：清洗剂(碱液)清洗→水洗→烘干三个过程，要求清洗后的钟罩炉内呈现“无水、无油、无垢”的状态，在国内多晶硅厂家生产初期，多采用人工手持高压水枪喷射到内壁上对附着污垢依次进行纯水清洗和清洗液清洗，最后用高温压缩空气进行烘干，这种人工手持高压水枪对多晶硅钟罩进行开放式清洗，多存在以下弊端：
 
1、还原炉内残留物及清洗剂均为具有腐蚀性的化学物质，清洗时稍有不慎容易溅到身上造成伤害；

2、还原钟罩内会有各种有毒有害气体溢出或残留，给清理人员带来健康和安全风险；

3、同时在清洗中残留氯硅烷会发生水解伴有氢气产生，且水解反应为强烈的放热反应，容易产生爆鸣燃烧；

4、人工清洗质量不均匀，多需要对清洗不干净的部位用酒精进行反复擦拭。

因此人工清洗方法存在不安全，不环保，清洗的一致性也难以保证、清洗效果差、自动化程度低、效率不高等缺陷。德高洁全密闭式多晶硅还原炉钟罩（炉筒）清洗烘干系统，由高压热水清洗机构、清洗工作台、万级净化干燥系统、循环过滤系统、电气控制系统等组成，能够代替人工实现还原炉钟罩到位→预清洗→清洗剂(碱液)清洗→漂洗→高纯水冲洗→净化热空气干燥→常温干燥→钟罩吊走的一体化清洗流程。
 
清洗时采用高压水射流三维立体清洗技术，可实现对钟罩内部表面进行360°无死角水力扫射，并采用专用清洗剂等为主要清洗液，先用脱盐水预清洗再依次用溶液、脱盐水漂洗，之后再采用高纯水冲洗，从而完成清洗过程；清洗工艺完成后，其后用经过三级净化(10万级)的纯净空气，梯级加热，保证烘干完的钟罩不再结露，可直接进入生产作业。

采用全密闭式清洗烘干系统可有效防止清洗时高压水射流喷射出钟罩外，使污染物(废气、废水等)在受控的条件下，按设计出口排放，有效避免人员安全隐患及环境污染事故，系统核心部件均为原装进口，采用欧洲标准，保证了多晶硅钟罩清洗系统性能可靠。
 
德高洁全密闭式多晶硅还原炉钟罩（炉筒）清洗烘干系统可以在一套系统实现多种型号钟罩的自动清洗烘干，清洗烘干时间、温度、清洗、漂洗等工艺参数可以根据需要自行调整设定，并可实现远程对设备的控制和主要参数监控，目前德高洁在多晶硅还原炉清洗行业已拥有国内90%的用户，为多晶硅行业提供了几十套还原炉清洗系统，如您有需求欢迎电话联系，德高洁将竭诚为您服务。